接下来的日子，相对清闲，当然这是针对李元本人。


    地下实验室那些人根本就消停不了，他们的干劲十足，加班加点。


    一部分人，在研究单晶棒更大尺寸的制备工艺，带头人便是黄燕。


    一部分人，在研究光刻机和刻蚀机，这本就是李元的后期规划，计划明年才启动。


    龚师兄一刻也等不了，带着4个人开始了光刻机和刻蚀机的研究。


    最后一部分人，研究封装和测量技术，由艾老师和毕老师共同负责。


    本来专用芯片的研究，他希望龚师兄负责，可惜他对光刻机和刻蚀机更感兴趣。


    说起光刻机，其实光刻技术的诞生比芯片还早。


    1955年，贝尔实验室实现了在硅片上用光刻加工出电子元器件的方法。


    1958年tI公司的工程师在公司值班时，突发奇想：为什么不将所有的电子器件都用同一种半导体材料来制造呢？


    这样就可以将它们集中在一块小小的半导体芯片上，并相互连接，做出极小的微型电路。


    虽然只是一个想法，tI公司还是快速申请了芯片专利。


    1961年，GcA公司造出了第一台重复曝光光刻机，覆膜式，可定位到1微米的精度。


    它如同女人做面膜........
全文内容获取中...
请关闭转码、阅读、纯净、屏蔽等模式，导致内容显示不全
如关闭后仍无法显示请下载纯净阅读APP或更换浏览器